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?2017 年 7 月 4 日-7 日，第 24 屆 IPFA 會議在四川成都盛大舉行，飛納電鏡攜飛納臺式掃描電鏡能譜一體機 Phenom ProX 出席了此次會議。

IPFA 是有關(guān)半導體物理分析、失效分析及可靠性方面學術(shù)水平zui高、規(guī)模zui大、影響zui廣的會議，IPFA 是 International symposium on the physical & failure analysis of integrated circuits 的簡稱，中文全稱集成電路物理與失效分析會議。1987 年，首屆 IPFA 會議由 IEEE 失效分析分會在新加坡舉辦，2001 年之前，IPFA 會議每兩年舉行一次。2002 年起每年舉行一次。IPFA 已經(jīng)發(fā)展為舉足輕重的可靠性與失效分析會議組織。在美國，相應的會議為 IRPS（可靠性物理會議）和 ISTFA（測試與失效分析會議）；在歐洲，相應的會議為 ESREF（歐洲電子器件可靠性與失效物理分析會議）。本次 IPFA 會議，飛納臺式掃描電鏡操作簡單，快速方便，成像清晰，能譜靈敏，設計精巧給來訪者留下了深刻的印象。

飛納電鏡應用工程師現(xiàn)場給來訪者展示樣品測試

飛納電鏡內(nèi)部集成彩色光學顯微鏡全景導航（右上角）

由于半導體器件體積小、重量輕、壽命長、功率損耗小、機械性能好。因而適用的范極廣。然而半導體器件的性能和穩(wěn)定性在很大程度上受它表面的微觀狀態(tài)的影響。一般在半導體器件試制和生產(chǎn)過程中包括了切割、研磨、拋光以及各種化學試劑處理等一系列工序， 正是在這些過程中，會造成表面的結(jié)構(gòu)發(fā)生驚人的變化，所以幾乎每一個步驟都需要對表面進行檢查，而生產(chǎn)大型集成電路就更是如此。目前，掃描電鏡在半導體中的應用已經(jīng)深入到許多方面。

飛納臺式掃描電鏡 15 秒抽真空，30 秒成像，大大提高了半導體器件的檢測效率。操作比光學顯微鏡簡單，相對于傳統(tǒng)落地式掃描電鏡能更快地得到掃描電鏡圖像結(jié)果。飛納電鏡使用長壽命 1500h，高亮度（是鎢燈絲亮度的 10 倍），低色差的 CeB6 燈絲，圖像信號充足。

飛納電鏡拍攝的集成電路內(nèi)部 放大倍數(shù) 20000x

飛納電鏡拍攝的集成電路內(nèi)部 放大倍數(shù) 50000x

飛納電鏡拍攝的微機電電路 放大倍數(shù) 5000x

飛納電鏡拍攝的微機電電路 放大倍數(shù) 10000x

飛納電鏡拍攝的 LED 芯片截面 放大倍數(shù) 70000x

飛納電鏡公司及產(chǎn)品介紹

感謝本次第 24 屆 IPFA 會議，為半導體行業(yè)的工作者和飛納電鏡筑起了一座橋梁，讓很多半導體行業(yè)的工作者全面了解飛納電鏡的使用方法及性能，也讓飛納電鏡的工程師了解了半導體行業(yè)的研究熱點與方向。